和湿式蚀刻是冲洗，和大少这个完全是两码事。”

    光刻机蚀刻机都是晶圆生产线的核心设备，由于晶圆生产的技术原理起源于相机，因此可以近似的把光刻机看成拍摄，蚀刻机看成冲洗，加工完成的晶圆就是相片。

    七十年代中期，主流蚀刻机对经过光刻机曝光之后晶圆都是采用液体化学溶剂冲洗光刻胶，因此也叫湿式蚀刻，七十年代末八十年代初，东洋尼康采用气体冲洗的干式蚀刻机研制成熟，只用了几年的时间就淘汰了操作复杂腐蚀污染严重的湿式蚀刻。

    可惜，整整二十多年，整个东洋也没人想到把湿式工艺挪移到上一个生产环节。

    一般来说，浸入式光刻机有三种技术路线：

    第一种是喷淋法，顾名思义就是把水喷到晶圆上然后再迅速带走，常见的喷淋法工艺是在镜头的一侧设置一个超精密喷嘴，随着镜头加工运动把水喷到镜头下方，然后从镜头的另一侧把水吸走。

    这个方法对超精密加工能力和计算机控制能力要求极高，在镜头下方的工作区稳定的建立起那层超薄水膜不比生产光刻机简单到哪去，如果精密加工和精密控制的能力不行，会导致晶圆边缘的曝光很差，严重影响晶圆生产线的良品率。

   
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