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第200章:流片成功

公司高层非常重视,给技术攻关团队下了死命令,他们加班加点的实验,用了一个月的时间终于制作出了一台合用的设备。

    合用的标准就是实验出了将溅镀的单晶铜靶材,完整的溅镀到了晶体管上,并且证明粘接稳了。

    德仪公司本来就技术雄厚,像光刻技术、蚀刻技术,都是全球领先,唯一不能解决的就是芯片发热问题,所以说是不太成熟的0.35微米工艺。

    在解决了铜互联工艺的关键技术之后,其技术等级马上提高了一大截,一举达到了0.18微米的制程工艺水平。

    以0.18微米的制程工艺来制造0.35微米制程工艺水平的芯片,就是张飞吃豆芽,小菜一碟了。

    在后期的封装环节,胡伟武要求用单晶铜线代替金线外部搭线,又令德仪公司的技术员眼前一亮,这个很简单的问题,如果他不说,还真没有人想到。

    但是只要他一说,德仪公司的技术人员就知道可行。

    特别是精简指令集芯片,外部寄存器、缓存等存储芯片特别多,要搭的线也特别多,可以节约大量的成本。

    这个外部搭线的方法,无法申请专利,所以胡伟武这一句提议,实际上为德仪公司节省了大量的资金。
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