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第341章 离子光刻机

了笑。

    周颖一下子感觉自己能力好像有点不够了!

    是不是也要学下刘林回校进修下!

    “那没关系,到时候我让吴灿陪你去,你负责大方面,反正你也知道我的打算,技术方面你交代吴灿就行!”刘林拍了拍周颖玉肩道。

    “如果是这样,那就没问题了!”周颖瞬间感觉自己又能胜任,便来劲了:“老公你现在跟我说说是什么样的设备,大概就行,至少让我知道是什么东西,别到时候一问三不知,那就尴尬了!”

    刘林耸耸肩,点点头!

    “好,我那给你说说,明天我给你一份离子光刻机的设计资料!他的可见g线:136nm,i线:65nm,深紫外光(duv),krf 准分子离子束:48 nm, arf 准分子离子束:23 nm!”

    “光刻机的波长越短,可曝光的特征尺寸就越小,波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高。”

    “还有就是离子束有着足够大的能量,能量越大,曝光时间就越短。”

    “曝光系统的功能主要有:平滑衍射效应、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。”

    “而光刻机的主要性
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