第266章 制程路线之争 (上)
产业界提出了各种超越 193n 的方案,其中包括 157n f2 激光,电子束投射(epl),离子投射(ipl)、euv(135n)和 x 光,几年的发展之后在世纪之交形成了几大技术阵营。
157n f2每家大型光刻公司都在研究,但唯独东洋尼康第一个推出了达到商用标准的产品。
157n 光会被现有主流193n机器所用的镜片吸收,光刻胶也要重新研制,所以产线改造难度极大,几乎是另起炉灶的重新再来,而157n光源对 193n的波长进步只有不到 25,研发投入产出比实在太低。
也不知道东洋是幸还是不幸,得益于其国民性的工匠精神死磕波长缩短的尼康属实伟大,第一个解决了困扰世界十来年的光源波长问题。
但可惜的是,彼时华人科学家林本坚博士光刻胶上加水的创意已经把193光源的波长通过折射直接变成137n未来更把193光源的线宽直接推进到了十纳米以下,直接把尼康投入巨资所研发的技术毫无悬念的送回了老家。
这件事绝对可以载入人类电子产业的发展史,可以说林本坚博士以一己之力直接击沉了东洋电子产业都不为过,要知道尼康
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